経済産業委員会で「特許法等の一部を改正する法律案」について質疑を行いました。
この法案は、政府が「知的財産立国」を打ち出してから15年以上経過しているにもかかわらず、5年前から特許出願件数が中国に抜かれ、現在は中国の4分の1、米国の2分の1という現状にも鑑み、知的財産保護の手続きを強化するものです。
　特許権の侵害に対して、証拠の有無を調べる「査証」という制度を新たに設けることや、損害賠償の制度の強化、画像や建築物も意匠権の保護対象にすることなどが盛り込まれています。